Silikonová vrstva

Silikonová vrstva

Naše polovodičové-vrstvy křemíkových plátků jsou pečlivě navrženy tak, aby usnadňovaly vysoce kontrolovanou výrobu zařízení v celém2" až 12" (50 mm - 300 mm)průmyslové spektrum. Tyto funkční vrstvy jsou navrženy s přesností na atomární{1}}úrovni povrchu a slouží jako hostitel s vysokou-integritou pro ty nejnáročnějšíCVD/PVD nanášení tenkých filmů-a složité více{0}}bránové architektury.

Diferencované technické výhody:

Sub-mikronová geometrická uniformita:Kromě jednoduché kontroly tloušťky jsou naše vrstvy ověřenyVariace celkové tloušťky (TTV) a místní rovinnost (SFQR). Tato jednotnost eliminuje posun zaostření ve fotolitografii s vysokým-rozlišením a zajišťuje, že přesné operace zůstanou konzistentní od středu plátku až po krajní okraj.

Předvídatelné chování mřížky:Tím, že náš materiál udržuje přísný práh pro intersticiální kyslík a uhlík, zabraňujetepelné srážení a skluz mřížkyběhem těkavého-vakuového žíhání a iontové implantace. Toto předvídatelné chování je nezbytné pro udržení stabilních elektrických profilů vPower IC (IGBT/MOSFET)výroba.

Populární Tagy: vrstva křemíkové desky, Čína výrobci křemíkové desky, dodavatelé, továrna