Platforma Silicon Wafer

Platforma Silicon Wafer

Tyto platformy křemíkových plátků jsou pečlivě navrženy tak, aby poskytovaly výjimečně spolehlivý povrch pro zpracování po celém2" až 12" (50 mm - 300 mm)spektrum průměru. Tyto substráty byly navrženy s přesností na atomární{1}}úrovni povrchu a fungují jako vysoce-věrný základ pro ty nejnáročnějšífotolitografie, suché leptání a nanášení tenkých filmů-sekvence.

Diferencované technické výhody:

Strukturální homogenita:Vlastnosti materiálu jsou optimalizoványObsah intersticiálního kyslíku (Oi) a uhlíkuřízení. Tato vnitřní rovnováha podporuje jednotné výrobní podmínky tím, že zabraňuje prokluzu mřížky a tepelnému vysrážení během těkavého vysokovakuového žíhání a rychlého tepelného zpracování (RTP).

Termomechanická odolnost:Materiál, navržený pro udržení stabilních vlastností při intenzivním tepelném a mechanickém zatížení, zajišťuje opakovatelné výsledkyPower IC (IGBT/MOSFET) a RF-ICvýroba. Tato stabilita je rozhodující pro dosaženísub{0}}mikrometrová variace celkové tloušťky (TTV)a minimalizace posunu zaostření v automatizovaných 300mm slévárenských linkách.

Spolehlivost průmyslové-třídy:Navrženo tak, aby splňovalo a překračovalo celosvětové normy technické kvality Tier{1}}1, nedotčená povrchová úprava (s drsností na úrovni Angstrom) zajišťuje konzistentní výsledky procesu, které přímo korelují s povznesenímwafer{0}}úroveň výtěžnosti a spolehlivost zařízení.

Všestrannost aplikace:Ať už jsou tyto substráty využívány pro specializovaný výzkum a vývoj prototypů nebo pro velkoobjemovou -průmyslovou{1}}výrobu, poskytují spolehlivé, polovodičové-exkluzivní materiálové řešení. Přesná orientace krystalů a rovnoměrnost dopantu jsou optimalizovány pro nejcitlivějšíMEMS, logika a výkonové polovodičeaplikací.

Populární Tagy: křemíková wafer platforma, Čína výrobci křemíkové wafer platformy, dodavatelé, továrna