Silicon Wafer Form

Silicon Wafer Form

Naše tvary polovodičových-křemíkových plátků jsou pečlivě navrženy tak, aby poskytovaly výjimečnéintegrita mřížkypro průmyslové zpracování s vysokou-hustotou. Navrženo tak, aby podporovalo celé spektrum od2" (50 mm) až 12" (300 mm)Tyto substráty fungují jako vysoce-platforma pro sub-mikrometrovou výrobu a zajišťují, že každá atomová vrstva přispívá ke spolehlivosti finálního čipu.

Diferencované technické výhody:

Předvídatelné tepelné chování:Udržováním přísného prahu pro obsah intersticiálního kyslíku a uhlíku naše destičky zabraňujískluz mřížky a tepelné sráženíběhem těkavého-vakuového žíhání a rychlého tepelného zpracování (RTP). Toto předvídatelné chování je základním kamenem efektivity výrobyPower IC (IGBT/MOSFET)výroba.

Geometrická konzistence plného-průměru:Každý formulář, bez ohledu na velikost, je ověřensub-mikrometrové variace celkové tloušťky (TTV) a deformace. Tato geometrická přesnost minimalizuje posun zaostření v pokročilé fotolitografii, což přímo koreluje s významným snížením posunu procesu a zvýšením výtěžnosti wafer-.

Populární Tagy: forma křemíkové desky, výrobci křemíkových desek v Číně, dodavatelé, továrna