Semiconductor Silicon Wafer Substrát

Semiconductor Silicon Wafer Substrát

Naše křemíkové destičky, navržené pro nulovou-výrobu vad, se vyznačují-nejlepší rovinností povrchu-k dosaženísub{0}}mikrometrová variace celkové tloušťky (TTV)-a mimořádně-přesná orientace krystalů. Chápeme, že v moderní výrobě polovodičů není konzistence mezi jednotlivými dávkami-k-sériím pouze požadavkem; je to absolutní základ vaší úrovně-výnosu oplatek.

Aby to bylo zajištěno, každý substrát prochází několika-fázemiÚleva od tepelného stresu-aChemické mechanické leštění (CMP)proces. Tato přísná úprava odstraňuje mikroskopické povrchové nedokonalosti, díky čemuž jsou naše destičky ideální platformou pro vysoce -přesnou fotolitografii, iontovou implantaci a komplexní epitaxní růst.

Proč si vybrat Zhonggui Semi?

Plná-univerzální velikost:Poskytujeme bezproblémovou podporu pro všechny průměry od2" (50 mm) až 12" (300 mm), která zajišťuje jak starší 200mm linky, tak 300mm slévárny nové{1}}generace.

Vylepšená elektrická integrita:Očekávejte opakovatelný odpor a mobilitu přepravce u každé zásilky, optimalizované pro výkonová zařízení (IGBT/MOSFET), RF mikroelektroniku a pokročilé logické integrované obvody.

Zaměření na čisté polovodiče:Naše produkční prostředí je striktně 100% Electronic-grade (EG). Dodržujeme přísné zásady nulové-tolerance pro solární-nečistoty nebo fotovoltaické kontaminanty, abychom zajistili vysokou-čistotu prostředí, které vaše fabrika vyžaduje.

Špičková spolehlivost:Díky přísné kontrole obsahu kyslíku a uhlíku naše základní materiály zaručují dlouhodobou{0}}stabilitu zařízení i při extrémních provozních teplotách a mechanickém namáhání.

Populární Tagy: Semiconductor Silicon Wafer Substrate, Čína Výrobci, dodavatelé, továrna Semiconductor Silicon Wafer Substrate