Silicon Wafer Core

Silicon Wafer Core

Naše řešení křemíkových plátků jsou navržena z atomové úrovně a využívají pokročilé technologieCzochralski (CZ)aPlovoucí zóna (FZ)metodologie růstu krystalů k zajištění ultra-čisté, defektní{1}} mřížkové struktury. Podpora kompletního průmyslového spektra od2" (50 mm) až 12" (300 mm), tyto substráty slouží jako vysoce{0}}integrovaný hostitel pro komplexní epitaxní růst a implantaci vysokých-iontů.

Udržujeme agresivní práh obsahu intersticiálního kyslíku a uhlíku, což je zásadní pro zajištění tepelné stability a zabránění srážení během nejtěkavějších cyklů žíhání za vysokého-vakuového žíhání. Optimalizacíglobální plochost a plochost{0}}specifická pro daný web (TTV a SFQR), naše wafery umožňují rozšířenou hloubku--ostření (DOF) v pokročilé sub{2}}mikronové fotolitografii, což přímo souvisí s významným zvýšením výtěžnosti vašeho konečného zařízení.

Populární Tagy: křemíkové jádro, výrobci křemíkových plátků, dodavatelé, továrna